深圳市第8.5代TFT-LCD(含氧化物半导体及AMOLED)生产建设项目T2研发楼项目
深圳市第8.5代TFT-LCD(含氧化物半导体及AMOLED)生产建设项目T2研发楼位于公明大道和科裕路的交汇处。项目包含一栋研发办公楼和两个门卫室,研发楼的建筑面积为50102.30㎡,建筑基地面积为7253.00㎡,建筑高度为33.75m。一号门卫室的建筑面积为317.39㎡,建筑基地面积344.84平方米。五号门卫建筑面积25.27㎡,基地面积为25.27㎡。
深圳市第8.5代TFT-LCD(含氧化物半导体及AMOLED)生产建设项目T2研发楼位于公明大道和科裕路的交汇处。项目包含一栋研发办公楼和两个门卫室,研发楼的建筑面积为50102.30㎡,建筑基地面积为7253.00㎡,建筑高度为33.75m。一号门卫室的建筑面积为317.39㎡,建筑基地面积344.84平方米。五号门卫建筑面积25.27㎡,基地面积为25.27㎡。